ゲルマニウム（Ge単結晶）はIR(赤外線波長帯)で優れた透過率を示す基板材料です。半導体・電子デバイス製造向けに、結晶成長時ドープ加工を施したN型・P型ゲルマニウム基板(平面研磨ウエハー・直径1, 2, 3インチ/ 面方位100, 110, 又は111）がお求め頂けます。